技术前瞻
氮化镓器件技术前瞻,生产研发技术动态,氮化镓厂家新器件。
氮化镓器件技术前瞻,生产研发技术动态,氮化镓厂家新器件。
对GaN HEMT而言,异质结界面处2DEG的变化将直接决定器件的工作状态,而2DEG的迁移率和浓度则是其中最关键的两个参数。因此,在文中,重点对低温下2DEG迁...
GaNHEMT的源、漏欧姆接触电阻的变化将直接影响器件的输出电流和膝点电压,为了深入分析常规器件输出电流在低温下所发生的变化,有必要对低温条件下器...
除了输出特性,转移曲线也是氮化镓器件一个重要的直流特性,通过对转移曲线求导,可以得到器件跨导,而跨导的大小则可以直接反映一个器件栅控能力...
近年来对器件尺寸缩小的要求,超薄体区(Ultrathinbody,UTB)的器件也越来越重要。在Si基器件中UTBSOI(Silicononinsulator)器件能在纳米尺度下提供载流子稳定的...
在耐压领域,普通AlGaN/GaN HEMT在承受耐压时,由于栅极和漏极之间沟道二维电子气不能够完全耗尽,使得沟道电场主要集中在栅极边缘,导致器件在较低的...
传统AlGaN/GaN HEMT采用肖特基栅极,但传统肖特基栅极存在反向栅极泄漏电流较大的问题,这会退化器件的击穿电压、增益等关键性能参数,主要有两大原因...
为了抑制短沟道效应并避免上述不利因素,本文对一种复合金属栅结构的AlGaN/GaN HEMT进行仿真分析。该结构通过对AlGaN/GaN HEMT进行栅结构优化,利用一系列不...
为提高器件的频率性能,当前应用于微波领域的AlGaN/GaN HEMT的主要研究方向是如何将器件的电流增益截止频率f T 和最高振荡频率f max 提高到最高,尤其是...
由于目前主流的AlGaN/GaN HEMT均是沿Ga面生长,所以在此以Ga面AlGaN/GaN异质结结构为例,解释二维电子气产生机理。在Ga面AlGaN/GaN异质结结构中,由于通常生长...
Ⅲ族氮化物的晶体结构一共有三种,分别为六方纤锌矿(Wurtzite)、立方闪锌矿(zinc-blende)和岩盐矿(rock salt)。在这其中闪锌矿结构并不稳定,而岩盐矿...